新一代SiC晶體生長用材料
隨著導(dǎo)電型SiC襯底的逐漸量產(chǎn),對(duì)工藝的穩(wěn)定性、可重復(fù)性都提出更高的要求。特別是缺陷的控制,爐內(nèi)熱場(chǎng)微小的調(diào)整或漂移,都會(huì)帶來晶體的變化或缺陷的增加。后期,更要面臨“長快、長厚、長大”的挑戰(zhàn),除了理論和工程的提高外,還需要更先進(jìn)的熱場(chǎng)材料作為支撐。使用先進(jìn)材料,長先進(jìn)晶體。
熱場(chǎng)中坩堝的材料,石墨、多孔石墨、碳化鉭粉等使用不當(dāng),會(huì)帶來碳包裹物增多等缺陷。另外在有些應(yīng)用場(chǎng)合,多孔石墨的透氣率不夠,需要額外開孔來增加透氣率。透氣率大的多孔石墨,面臨加工、掉粉、蝕刻等挑戰(zhàn)。
恒普推出全新一代SiC晶體生長熱場(chǎng)材料,多孔碳化鉭。全球首發(fā)。
碳化鉭的強(qiáng)度和硬度都很高,做成多孔狀,更是挑戰(zhàn)。做成孔隙率大、純度高的多孔碳化鉭更是極具挑戰(zhàn)。恒普科技突破性的推出大孔隙率的多孔碳化鉭,孔隙率最大可以做到75%,國際領(lǐng)先。
氣相組元過濾,調(diào)整局部溫度梯度,引導(dǎo)物質(zhì)流方向,控制泄露等都可以使用。可與恒普科技另外一款固體碳化鉭(致密)或碳化鉭涂層,形成局部不同流導(dǎo)的構(gòu)件。
部分構(gòu)件可以重復(fù)使用。
多孔碳化鉭實(shí)拍圖:

技術(shù)參數(shù)
- 孔隙率 ≤75% 國際領(lǐng)先
- 形狀:片狀、筒狀 國際領(lǐng)先
- 孔隙度均勻

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